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    半導體電子行業 EDI超純水設備

    產品簡介

    半導體電子行業 EDI超純水設備出水水質具有最佳的穩定度。能連續生產出符合用戶要求的超純水,電阻率可達15-18MΩ。

    產品型號:
    更新時間:2025-05-12
    訪問次數:1219
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    半導體電子行業 EDI超純水設備概述

    EDI(Electrodeionization)又稱連續電除鹽技術,是當今先進的高純水生產技術,它科學地將電滲析技術和離子交換技術融為一體,通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實現水中離子的定向遷移,從而達到水的深度凈化除鹽,并通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生,因此EDI制水過程不需酸、堿化學藥品再生即可連續制取高品質超純水,它具有技術先進、結構緊湊、操作簡便的優點,可廣泛應用于電力、電子、醫藥、化工、食品和實驗室領域,是水處理技術的綠色革命。
     

    一、半導體超純水設備工作原理

    1、供給原水進入EDI系統,主要部分流入樹脂/膜內部,而另一部分沿膜板外側流動,以洗去透出膜外的離子。

    2、樹脂截留水中的溶存離子。

    3、被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動。

    4、陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。

    5、陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。

    6、濃縮了的離子從廢水流路中排出。

    7、無離子水從樹脂/膜內流出。

    半導體電子行業 EDI超純水設備

    二、EDI純水儀,EDI超純水機產品特性

    1、出水水質具有最佳的穩定度;

    2、能連續生產出符合用戶要求的超純水,電阻率可達15-18MΩ.cm;

    3、模塊化生產,并可實現全自動控制;

    4、不需酸堿再生,無污水排放;

    5、不會因再生而停機;

    6、無需再生設備和化學藥品儲運;

    7、設備結構緊湊,占地面積小;

    8、運行成本和維修成本低;

    半導體電子行業 EDI超純水設備


    三、半導體超純水設備特點及應用范圍

    1、設備緊湊、占地面積小(僅為傳統工藝的15%);

    2、無需再生、可連續運行;

    3、水的利用率高;

    4、無酸堿排放、無化學污染;

    5、產水品質高度穩定;

    6、運行成本低廉(僅為傳統工藝的65%);


    四、設備參數表

    規格

    處理量
    (T/H)

    備注

    規格

    處理量
    (T/H)

    備注

    EDI-0.5T

    0.5

    主機含膜組件、支架
    主機管路高壓泵及電控器 。

    EDI-1T

    1.0

    主機含膜組件、支架、
    主機管路、高壓泵及電控器

    EDI-2T

    2.0

    EDI-3T

    3.0

    EDI-4T

    4.0

    EDI-5T

    5.0

    EDI-6T

    6.0

    EDI-7T

    7.0

    EDI-8T

    8.0

    EDI-10T

    10.0


    雙級+EDI工藝流程                                 

    半導體電子行業 EDI超純水設備

    電子行業超純水工藝流程

    電子行業超純水工藝流程

     

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